“光刻机的事，我可以答应你。”李在镕思考片刻，做出了判断，“但技技术共享方面，最多只到20nm！”
陈东升暗笑，李在镕的算盘果然打错了。
“技术共享”的意思，自然是双方互相的事。
但在李在镕看来，即使有最先进的光刻机，陈东升这边也是绝对没有机会突破20nm制程。20nm之前肯定是三星占便宜，等突破了20nm，可不能再让陈东升把便宜占回去。
之所以有这样的判断，还是要说回光刻机。
截至目前，世界上最强的光刻机厂商还是尼康。过去，突破制程的方式主要靠缩短光源的波长，在193nm向下突破时，尼康选择了157nm光源。
甚至早在2003年，尼康就造出了157nm波长的光刻机，但由于对镜头缺陷率和像差很难控制，并且价格相当昂贵，加上使用寿命也极短，让整个芯片界无法容忍。
而此时，弯积电资深处长林本坚在一次会议上提出，不如退到193nm光源，使用浸润的方式，通过水的折射率（1.44），把光源波长降到134nm，这样就跳过了157nm的瓶颈——这就是浸入式光刻。
2004年，在弯积电的帮助下，ASmL的造出了第一台duv，并一举拿下了多家大客户的订单。
而尼康则也在后来被最大的客户英特尔背刺，后者选择倒向ASmL。
就在今年（2007），ASmL将以60%的市占率超越尼康，成为光刻市场的领导者。
而duv光刻机也分步进投影式和浸没步进式。前者适用130~65nm级芯片，后者适用45~22nm级芯片。
也就是说，没有浸没步进式duv，陈东升想要突破65nm制程都是纸上谈兵。
理论上，要突破22nm那就得更换光源了，即EUV光刻机才能做到。
李在镕毕竟不是搞技术的，不知道通过多次曝光，28nm光刻机是可以实现7nm制程，就是工序相比EUV要复杂许多而已。
陈东升心里在狂笑，表面上却一副愤怒的样子，回应到：“20nm？太先进了最多45nm！”
“45nm，那不跟没培训一个样？”李在镕连忙讨价还价，“必须是20nm！”
“既然这样，那就别技术共享了。”陈东升情绪激动，“不培训拉倒！”
“可以增加培训费用！”李在镕连忙加码，好不容易有个算盘可以打起来，可不能让陈东升跑掉了。反正20nm以后三星肯定自己来，20nm之前的好处，能占一点是一点。
陈东升冷漠地说：“28nm，这是我的底线，培训人数60人。”
“28nm就28nm！我要培训100人！”李在镕按下心头喜悦，继续砍价。
“90人，三位数的人员太多了，教室坐不下。”陈东升随口拒绝。
“神特马教室坐不下。”李在镕最终一脸嫌弃地点头，“行！我同意！”
“我会对千星半导体进行增资，到时候以千星半导体的名义全资收购你手里那个破产半导体公司，把设备什么都运回国内。”
“这样就可以千星半导体为平台，共享28nm之前的技术和制程工艺，实现双方分担成本的作用。”
“可以。”李在镕满口答应，却只觉得陈东升是痴心妄想，只凭一个梁孟松，怎么可能比三星更快突破20nm制程？以后还不是得乖乖找三星买芯片？