“光刻机的事,我可以答应你。”李在镕思考片刻,做出了判断,“但技技术共享方面,最多只到20nm!”
陈东升暗笑,李在镕的算盘果然打错了。
“技术共享”的意思,自然是双方互相的事。
但在李在镕看来,即使有最先进的光刻机,陈东升这边也是绝对没有机会突破20nm制程。20nm之前肯定是三星占便宜,等突破了20nm,可不能再让陈东升把便宜占回去。
之所以有这样的判断,还是要说回光刻机。
截至目前,世界上最强的光刻机厂商还是尼康。过去,突破制程的方式主要靠缩短光源的波长,在193nm向下突破时,尼康选择了157nm光源。
甚至早在2003年,尼康就造出了157nm波长的光刻机,但由于对镜头缺陷率和像差很难控制,并且价格相当昂贵,加上使用寿命也极短,让整个芯片界无法容忍。
而此时,弯积电资深处长林本坚在一次会议上提出,不如退到193nm光源,使用浸润的方式,通过水的折射率(1.44),把光源波长降到134nm,这样就跳过了157nm的瓶颈——这就是浸入式光刻。
2004年,在弯积电的帮助下,ASmL的造出了第一台duv,并一举拿下了多家大客户的订单。
而尼康则也在后来被最大的客户英特尔背刺,后者选择倒向ASmL。
就在今年(2007),ASmL将以60%的市占率超越尼康,成为光刻市场的领导者。
而duv光刻机也分步进投影式和浸没步进式。前者适用130~65nm级芯片,后者适用45~22nm级芯片。
也就是说,没有浸没步进式duv,陈东升想要突破65nm制程都是纸上谈兵。
理论上,要突破22nm那就得更换光源了,即EUV光刻机才能做到。
李在镕毕竟不是搞技术的,不知道通过多次曝光,28nm光刻机是可以实现7nm制程,就是工序相比EUV要复杂许多而已。
陈东升心里在狂笑,表面上却一副愤怒的样子,回应到:“20nm?太先进了最多45nm!”
“45nm,那不跟没培训一个样?”李在镕连忙讨价还价,“必须是20nm!”
“既然这样,那就别技术共享了。”陈东升情绪激动,“不培训拉倒!”
“可以增加培训费用!”李在镕连忙加码,好不容易有个算盘可以打起来,可不能让陈东升跑掉了。反正20nm以后三星肯定自己来,20nm之前的好处,能占一点是一点。
陈东升冷漠地说:“28nm,这是我的底线,培训人数60人。”
“28nm就28nm!我要培训100人!”李在镕按下心头喜悦,继续砍价。
“90人,三位数的人员太多了,教室坐不下。”陈东升随口拒绝。
“神特马教室坐不下。”李在镕最终一脸嫌弃地点头,“行!我同意!”
“我会对千星半导体进行增资,到时候以千星半导体的名义全资收购你手里那个破产半导体公司,把设备什么都运回国内。”
“这样就可以千星半导体为平台,共享28nm之前的技术和制程工艺,实现双方分担成本的作用。”
“可以。”李在镕满口答应,却只觉得陈东升是痴心妄想,只凭一个梁孟松,怎么可能比三星更快突破20nm制程?以后还不是得乖乖找三星买芯片?