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第449章 曝光场（第3页）

线宽五微米，面积不超过四十平方毫米，功耗控制在瓦级以内。

吕辰想起前世那些芯片，动辄几亿个晶体管，几十个核心，几百个接口。

而现在，他要在五微米工艺的限制下，用几千个晶体管，实现一个完整的伺服控制系统。

就像一个木匠，手里只有一把锯子和一把刨子，却要造出一座钟表。

坐在对面的诸葛彪眉头皱起来：“温补接口？西军电的晶振到底需要什么样的补偿曲线。还有光栅尺解码，长光所那边给的信号格式，详细文档什么时候到？”

钱兰也皱着眉头：“按你这个框图，最少得两千五百个晶体管。”

吕辰点头：“五微米工艺，四十平方毫米，应该能放得下。”

“能放下。”诸葛彪说，“但问题是良率。管子越多，良率越低。这个规模，咱们的中试线怕是百分之十都做不到。”

诸葛彪说的是实话。

五微米工艺，缺陷密度摆在那里。

芯片面积越大，晶体管越多，碰到缺陷的概率就越高。

良率不是线性下降，是指数下降。

“那就得取舍。”吕辰走回桌边，“哪些功能必须片上，哪些可以外接？”

钱兰道：“晶振接口、分频倍频、脉冲生成，这三块必须片上。反馈处理可以简化，只做脉冲计数和简单比较，复杂的PID算法放到外面。”

吕辰摇头：“放外面延迟太大。反馈信号要实时处理，过了几十微秒再修正，电机可能已经抖起来了。”

诸葛彪点头：“那就片上，但要留旁路模式。”

他进一步解释：“正常工作时，用片上的PID。如果片上的PID不够用，可以通过一个引脚切换，把反馈信号直接引出去，让外部电路处理。”

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